首页 >产品中心>
走进粉磨机械的世界,把握前沿动态资讯
2023年4月28日 研磨工艺是去除切割过程中造成碳化硅晶片的表面刀纹以及表面损伤层,修复切割产生的变形。 由于SiC的高硬度,研磨过程中必须使用高硬度的磨料(如碳化硼或金刚石 2024年8月8日 碳化硅 (SiC)作为一种宽禁带半导体材料,因其独特的物理和化学特性,在半导体行业中占据了重要地位。 相比于第一代和第二代半导体材料(如硅和砷化镓),碳化硅单 碳化硅晶圆进入8英寸时代!研磨抛光环节该如何破局 ...
了解更多2023年8月7日 在碳化硅半导体的制备过程中,晶圆衬底制造作为占据总成本的40%,是至关重要的一项工艺。. 在半导体晶圆衬底制造过程中,切割磨抛工序是不可或缺的环节之一,它是将硅晶圆切割成较薄的片状,然后进行研磨和抛 2024年3月7日 2022年,鸿海集团推出首款自制电动皮卡Model V以及Model B电动SUV,现场展示第三代半导体技术——碳化硅(SiC)功率模块,电动车用电控系统、6寸碳化硅导电型(N-type)晶圆基板产品;2023年12月,小米汽车宣 「碳化硅」晶圆制造及精密磨削、抛光、清洗解决方
了解更多2024年7月10日 “行家说三代半”发现,目前针对碳化硅的切磨抛工艺,主要应用在两大工序中:一是碳化硅晶锭通过切、磨、抛加工,得到 碳化硅衬底 的过程,二是碳化硅晶圆经过背面减薄、抛光,然后进行晶圆划片,得到单个 碳化 3 天之前 原理是利用线锯的快速运动将切削液中的磨料颗粒带入锯缝,在切割线的压力和速度的带动下,游离的磨料颗粒在锯缝中不断滚动,从而实现材料的切割。 图:砂浆线切割示意图. 利用该项技术切割碳化硅晶锭时,磨粒对切割效果 顺应降本增效趋势,半导体碳化硅(SiC) 衬底4种切割
了解更多2023年8月8日 碳化硅. 磨抛. 失效分析 赵工 半导体工程师 2023-08-08 06:21 发表于北京. 在碳化硅半导体的制备过程中,晶圆衬底制造作为占据总成本的40%,是至关重要的一项工艺。. 在 2022年5月20日 碳化硅具有强度大、硬度高、弹性模量大、耐磨性好、导热性强和耐腐蚀性好等优异性能,被广泛地应 用于磨料磨具、陶瓷、冶金、半导体、耐火 ...碳化硅的制备及应用最新研究进展 - ResearchGate
了解更多2022年8月17日 碳化硅物料的化学性能稳定、导热系数高、耐磨性能好,其经过磨粉加工后,用途更为广泛。碳化硅雷蒙磨机主要由主机、分析器、风机、成品旋风分离器、微粉旋风分离器及风管组成,河南红星生产的碳化硅雷蒙磨各部件均采用了高品质材料制成,制作工艺精湛,加工流程严谨,提高了整个磨粉 ...专业生产离心式(行星式)研磨光饰抛光机,自动离心去毛刺机,滚磨、溜光、镜面抛光机器、设备、机械、工具。适合各种产品零部件、工件自动化大批量高效率去氧化皮、去毛刺、去飞边、除披锋、除锈、倒角、除油、去污、清洗、提高表 离心式研磨光饰抛光机 - 产品零件自动化研磨抛光
了解更多2021年6月22日 HTM500/ HTM1000砂磨 机开始批量服务粉体新材料行业 中化新网讯(记者姜小毛)记者从近日在四川省绵竹市召开的锂电正负极材料生产工艺及设备高峰论坛上获悉,一款用于磷酸铁锂生产的单机全球最大HTM500/ 2021年6月22日 HDM1000/1200大型超细砂磨机技术含量极高,加工难度大,零件材质要求高。国外主要生产厂家不向中国转让技术。某国外公司虽然在中国建立了独资公司,但该大型设备却不在中国生产。研磨工艺: 连续、多批次、循环研磨 技术参数: 筒体容积:1000/1200 电机功率:315KW/355KW 应用领域: 钛白粉、化纤 ...大型盘式砂磨机HDM1000/1200 - 粉体网
了解更多2019年5月23日 机械密封动静环材质的选择需要考虑多方面的因素,一般情况下最优组对为石墨对碳化硅 (石墨做窄环),这种组对适合大部分的工作情况,但是有一点,输送介质中含有颗粒或磨粒的情况下就不适合了。在有颗粒或磨粒介质的情况下可以选择硬 ...2015年6月18日 干式微粉分级机,大都是采用离心法和射流法实现不同粒度的微粉分级。离心法就是利用高速旋转的分级叶轮,在分级叶轮缘处形成了强大的离心场,大尺寸微粉因为离心力更大被甩出,小尺寸微粉颗粒因为离心力较小,被风力“压入”分级叶轮,经过管道导入收集室收集。亚微米粉体干式分级技术难点及解决方案 - 360powder
了解更多经查 JB/T 8096-2013《离心式渣浆泵》规 定了抗磨白口铸铁、橡胶材质的离心式渣浆泵的技术要 求,未涉及碳化硅陶瓷材质渣浆泵的技术要求,碳化硅 陶瓷泵的生产处于还无标准可执行。2024年5月11日 纳米级循环砂磨机Zeta ® RS是继成熟技术的耐驰棒销式砂磨机Zeta-大流量循环式研磨系统之后,在成熟稳定的纳米砂磨机基础上开发的新一代产品。 Zeta ® RS所涉及的应用领域是其它棒销式砂磨机无法实现的。 高效离心分离系统可以使用最小直径为 ...纳米级循环砂磨机 Zeta ® RS - 研磨 分散 耐驰(上海 ...
了解更多2023年1月6日 2. 氧化腐蚀结合球磨整形工艺法 氧化腐蚀结合球磨工艺原理是先对磨料颗粒的不规则地方进行氧化处理,例如使碳化硅颗粒的棱角部位完全被氧化,生成二氧化硅,再采用球磨法对碳化硅进行整形研磨处理,对被氧化后的碳化硅颗粒进行研磨,去除其棱角。2024年6月24日 砂磨机离心 分离(无网式)出料设计采用了无筛网的离心分离原理,拥有独立的动力电机。机器运行时,通过分散器的离心力,将研磨锆球被分布在研磨腔体外围,并与物体产生同向运动。只有少量的锆球和物料围绕分离器旋转。在高速旋转的 ...砂磨机静态、动态及离心分离出料的原理及优势 - cnpowder ...
了解更多一套单端面机械密封单独使用于充油式电动机时,既要防止机外杂质、砂粒 和水进入,又要防止机内油液外泄,密封要求较高,密封环材料要求较好,常采用碳化钨或碳化硅材料制作;如安装于充水式电动机轴伸端,一般只要求起防砂作用, 2020年4月14日 什么是碳化硅? 碳化硅(SiC)材料作为一种技术成熟的耐磨材料,其硬度高、分子结构稳定、具有良好的耐磨蚀、耐腐蚀、耐高温特性,已广泛运用于矿山、冶金、电力、化工等行业;国内外渣浆泵领域,工况多以强腐蚀性、强磨蚀性介质为主,使用环境恶劣,这就要求过流件的材料具有良好的耐 ...什么是碳化硅陶瓷泵? - 知乎
了解更多Horizontal Turbo Nano-Mills HZM砂磨机 涡轮离心纳米砂磨机HZM系列 RETO -Sic碳化硅 立式实验室砂磨机-VBM2 HTM400-1000凸盘式砂磨机 HDM100-300卧盘式砂磨机 RETSCH Lab ULfra-find Mills 超细研磨设备/ HDM500-1000卧盘式砂磨机 RVM干/湿高效双动力离心式纳米砂磨机 NT-VS系列 技术优势: 无筛网分离 物料粒径分布窄 *小可使用粒径0.05mm研磨介质 超细纳米级棒销式高效研磨机型,研磨细度可达100nm以下,物料研磨与物料分离独立运行,研磨更加精细彻底,单位时间内的有效产出是普通砂磨机的2-3倍,广泛应用于纳米新材料、MLCC、锂电、硅 ...双动力纳米砂磨机NT-VS系列 离心式卧式研磨机 琅菱LONGLY
了解更多2010年9月19日 砂磨机概述 砂磨机又称珠磨机,该机主要用于化工液体产品的湿式研磨,根据使用性能大体可分为立式砂磨机,卧式砂磨机、篮式砂磨机、棒式砂磨机等。主要由机体、磨筒、分散器、底阀、电机和送料泵组成,进料的快慢由阀门控制。该设备的研磨介质一般分为玻璃珠、氧化锆玻璃珠、氧化锆珠 ...RETO®--SiC碳化硅研磨介质是世界上除日本外,唯一可以生产该介质的厂家,主要用工程陶瓷碳化硅的超细无污染研磨。 ... 机 HDM100-300卧盘式砂磨机 HDM500-1000卧盘式砂磨机 HTM400-1000凸盘式砂磨机 RKM超大型金砂磨机 涡轮离心纳米砂磨机HZM ...碳化硅球-RETO®--SiC碳化硅研磨介质 - cnpowder.cn
了解更多2024年6月24日 砂磨机的动态出料出料适用于中高黏度物料,机型:LDM-C型、LDM-G成品粒径μm级物料; 棒销式微米砂磨机 LDM-C系列 三、离心分离(无网式)出料 砂磨机离心分离(无网式)出料设计采用了无筛网的离心分离原理,拥有独立的动力电机。2024年8月8日 碳化硅晶片磨抛是单晶生长后的一大高难度工艺,目前我国的碳化硅晶片表面加工精度与国外相比仍然有较大差距,我国仍需要进一步研究研磨、抛光过程中的机理,研发更先进的精密工艺设备,优化晶片加工方法,制备出高质量的碳化硅衬底。碳化硅晶圆进入8英寸时代!研磨抛光环节该如何破局 ...
了解更多2023年11月1日 碳化硅 磨粉机设备工作时,将需要粉碎的物料从皮带机带到机罩壳侧面的进料斗加入机内,主机梅花架上的磨辊装置,绕着垂直轴线转,由于旋转时离心力的作用,磨辊向外摆动,紧压于磨环,使铲刀铲起物料送到磨辊与磨环之间,因磨辊的滚动 ...2024年8月28日 碳化硅球磨罐介绍pdf 4.72MB 免费下载 相关产品 更多 气流筛分机 型号:QWA-200 9999元 12吨压片机 型号:MC-12 ... 卧式不锈钢球磨 罐—搭配罐磨机 Q-2型金相试样切割机 Q-100B型自动金相试样切割机 MP-2B型金相试样磨抛机 ...碳化硅球磨罐介绍_长沙米淇仪器设备有限公司.
了解更多2024年6月29日 生产工艺: 制备陶瓷粉,按重量份计,将大粒径碳化硅粉、中粒径碳化硅粉、小粒径碳化 硅粉、包覆炭黑、石墨、酚醛树脂、去离子水混合后加入球磨机中进行球磨,球磨时的转速为 300-400rpm,球料比为 3-5:1,时间为 10-15h,得到浆料;对浆料进行喷雾造粒,喷雾造粒时的进风温度为 250-270℃,出风 ...高品质耐磨圆球形碳化硅研磨石抛光磨料 圆球形高耐磨高品质碳化硅研磨材料、研磨石、抛磨块。振动(震动)、滚抛研磨光饰、光整、振光、滚光、溜光、镜面抛光用,适合各类产品零部件、工件自动化大批量高效率除毛刺、除锈、除飞边、去披锋、倒角、除油、去污、清洗。星科研工场 - 产品零件自动化研磨抛光
了解更多双动力离心式超细纳米砂磨机 产品介绍 双动力物料研磨与物料分离立运行 离心式分离无筛网,不堵料 可以用使用0.1甚至0.05锆珠,可以研磨100纳米以下细度 是100纳米细度实施稳定量产为数不多的机器 分离结构材质选2021年6月22日 HDM1000/1200大型超细砂磨机技术含量极高,加工难度大,零件材质要求高。国外主要生产厂家不向中国转让技术。某国外公司虽然在中国建立了独资公司,但该大型设备却不在中国生产。研磨工艺: 连续、多批次、循环研磨 技术参数: 筒体容积:1000/1200 电机功率:315KW/355KW 应用领域: 钛白粉、化纤 ...大型盘式砂磨机HDM1000/1200 - cnpowder.cn
了解更多2022年10月17日 氧化腐蚀结合球磨工艺原理是先对磨料颗粒的不规则地方进行氧化处理,例如使碳化硅颗粒的棱角部位完全被氧化,生成二氧化硅,再采用球磨法对碳化硅进行整形研磨处理,对被氧化后的碳化硅颗粒进行研磨,去除其棱角。2018年6月30日 本专利采用离心喷雾造粒技术对碳化硅 水基复合料浆进行喷雾造粒,提供了一种具有产量高、成本低、粉料工艺性能好的喷雾造粒方法。喷雾造粒后碳化硅粉体流动性大大提高,成型性能好,得到素坯的均匀性及致密性提高,适宜制造高致密度高 ...一种碳化硅粉体的喷雾造粒方法与流程 - X技术网
了解更多3 天之前 6 )跨学科研究:碳化硅衬底的磨抛加工技术涉 及多个学科领域,如材料科学、化学、力学等. 加强各 学科之间的交流,促进学科交叉融合,推动碳化硅衬 底磨抛技术的创新发展. 5 结 论 本文阐述了碳化硅衬底磨抛技术的研究进展与 发展趋势 .2022年7月23日 碳化硅球磨机易损件磨辊磨环均采用用高烙材料取代了原高锰钢,其使用寿命为原高锰钢的3~5倍,提高了设备的可靠性。另外,磨辊装置可实现1000小时加注一次润滑脂。另外,更换磨环不用拆除磨辊装置,维护更方便。对碳化硅的适应性强碳化硅球磨机-碳化硅研磨设备厂家-河南红星机器
了解更多