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铟锡氧化物 (ITO) 靶材的应用和制备技术_百度文库

硝酸铟的分解是湿法制备氧 化铟超细粉的常规工艺, 采用硝酸铟水溶液加氨水, 生成氢氧化铟后焙烧, 或者从外部活 加沉淀剂生成氢氧化铟再焙烧, 但粉体易引入杂质, 颗粒易团聚且不规则. 采用改 铟锡氧化物 (ITO)粉体及高性能ITO靶材的制备与研究. 本论文以热等静压制备铟锡氧化物 (ITO)靶材的工艺流程为主线,借助热分析 (TGA-DTA),X 射线衍射 (XRD),透射电镜 (TEM),扫描电镜 铟锡氧化物(ITO)粉体及高性能ITO靶材的制备与研究 - 百度学术

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纳米级氧化铟锡粉体和高密度ITO靶材的制备 - buct.cn

2016年1月4日  氧化铟锡( indium-tin-oxide )简称 ITO,ITO 靶材是一种功能陶瓷材料,主要用于制造 ITO 透明导电膜玻璃。 以金属铟、锡为原料采用共沉淀法制备出纳米级 ITO 复合粉体。2013年3月1日  铟锡氧化物(ITO)粉体及高性能ITO靶材的制备与研究. 下载积分: 800. 内容提示: I摘 要 本论文以热等静压制备铟锡氧化物ITO靶材的工艺流程为主线借助热分析TGA 铟锡氧化物(ITO)粉体及高性能ITO靶材的制备与研究

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大尺寸氧化铟锡 (ITO)靶材制备研究进展

2022年6月17日  摘要: 氧化铟锡 (Indium Tin Oxide,ITO)靶材是屏幕显示器、光伏电池、功能玻璃等领域的关键原材料之一,已朝着大尺寸 (长度至少600 mm)、高密度、低电阻率和高使用率的方向发展。. 本文介绍了高性能ITO靶材的技 2021年6月17日  压制成形是将松散的ITO粉末原料放入设计好的模具中,并施加一定的压力后便获得块状坯体的一种成形方法,在加压过程中 ITO 粉末发生颗粒位移、重新排列、破碎和变 高致密ITO靶材制备工艺的研究现状及发展趋势--中国期刊网

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铟锡氧化物纳米粉体的制备方法及分散的研究进展 - USTB

铟锡氧化物(ITO)纳米粉体具有粒径小、比表面积大、分散性好、杂质少的特点,是制备性能良好的ITO薄膜的原料.本文介绍了目前ITO纳米粉体的制备方法如:喷雾燃烧法、溶胶-凝胶法、水热 2022年3月31日  ITO复合粉体的制备方法有很多种,常用的方法有共沉淀法、水热法、低温制备法、溶胶-凝胶法、喷雾燃烧法 、减压-挥发氧化法等。其中共沉淀法工艺流程简单, 实验条件也较易控制 ,环境污染少,制得粉体粒度较均匀, 产品达 纳米ITO粉制备方法 - 知乎

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一种ITO靶材废料制粉系统的制作方法 - X技术网

2022年4月7日  一种ito靶材废料制粉系统 技术领域 1.本实用新型属于制粉技术领域,具体涉及一种ito靶材废料制粉系统。 背景技术: 2o(氧化铟锡)靶材是广泛应用于液晶显示器、触摸屏、多功能玻璃、晶体管等中的新型高端材料。 由于对ito靶材的要求很高,在制作、清理、转运、包装和溅射使用过程中,因 ...2022年4月7日  一种ito靶材废料制粉系统 技术领域 1.本实用新型属于制粉技术领域,具体涉及一种ito靶材废料制粉系统。 背景技术: 2o(氧化铟锡)靶材是广泛应用于液晶显示器、触摸屏、多功能玻璃、晶体管等中的新型高端材料。 一种ITO靶材废料制粉系统的制作方法 - X技术网

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半导体氧化物陶瓷材料-- 氧化铟锡靶材 - 知乎

2023年3月9日  ITO溅射靶材是将氧化铟和氧化锡粉按一定比例混合后,在高温气氛(1600度,氧气烧结)中经过一系列生产工艺形成的黑灰色陶瓷半导体。主要用于磁控溅射制备高性能ITO光电薄膜,广泛应用于新型显示、电磁屏蔽、半导体光伏等领域。2020年4月29日  为解决上述问题,本发明提供一种单节长度一米以上的旋转ito靶材制备工艺,采用制粉-粉处理-造粒-成型-烧结-机加工-绑定-检验共八个步骤,其中步骤三造粒采用超细研磨机,将混合浆料磨到0.5um以下,再增加黏结剂,后将粉末通过喷雾造粒机,制成球形分布单节长度一米以上的旋转ITO靶材制备工艺的制作方法 - X技术网

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单节长度一米以上的旋转ITO靶材制备工艺的制作方法 - X技术网

2020年4月29日  为解决上述问题,本发明提供一种单节长度一米以上的旋转ito靶材制备工艺,采用制粉-粉处理-造粒-成型-烧结-机加工-绑定-检验共八个步骤,其中步骤三造粒采用超细研磨机,将混合浆料磨到0.5um以下,再增加黏结剂,后将粉末通过喷雾造粒机,制成球形分布2022年3月31日  铟锡氧化物-ITO在许多方面得到应用 ,如电学材料、透明电 极材料 、太阳能电池材料、电致发光材料等, 特别是氧化铟锡纳米晶体粉末在屏幕显示技术方面有着广泛的应用 。由ITO粉末制成的ITO靶材及其ITO导电膜在低压纳米ITO粉制备方法 - 知乎

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ITO靶材:工艺揭秘,性能提升与延寿技巧

2023年11月3日  ITO(Indium Tin Oxide,锡掺杂氧化铟)是一种应用广泛的透明导电材料。其具有优异的光学透过率和电导率,因此在液晶显示器(LCD)、触摸屏、光伏电池和有机发光二极管(OLED)等领域有着重要的应用。摘要: 用化学共沉淀法制得ITO粉体,通过剪切分散法制备ITO浆料, 采用XRD,TEM和SEM等对粉体,浆料进行表征与分析,研究工艺参数对浆料稳定性的影响.结果表明,ITO粉体晶体呈立方铁锰矿型结构,平均晶粒尺寸 分布在20nm左右,由此粉体制取无水乙醇浆料的最佳工艺条件是pH=3左右,剪切时间为30h,剪切速度为6000r ...纳米ITO粉体的制浆工艺 - 百度学术

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纳米级氧化铟锡粉体和高密度ITO靶材的制备 - buct.cn

2016年1月4日  技术简介 氧化铟锡( indium-tin-oxide )简称 ITO,ITO 靶材是一种功能陶瓷材料,主要用于制造 ITO 透明导电膜玻璃。 以金属铟、锡为原料采用共沉淀法制备出纳米级 ITO 复合粉体。 粉体造粒成型后分别采用加压和常压烧结法制备出相对理论密度大于 99.5%、氧化铟单一相的 ITO 靶材。2023年4月13日  ITO 靶材 ITO靶材以磁控溅射等方式用于导电玻璃的制备. ITO镀膜具有导电性、对可见光的透明性以及对红外线的反射性三个特性,其广泛用于显示屏、玻璃幕墙、触摸屏、太阳能电池、雷达屏蔽、冰柜、防雾玻璃等产品,尤以显示屏为大宗。ITO靶材氧化铟锡靶材-啟睿新材料

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铟锡氧化物(ITO)粉体及高性能ITO靶材的制备与研究

2013年3月1日  I摘要本论文以热等静压制备铟锡氧化物ITO靶材的工艺流程为主线借助热分析TGA-DTAX射线衍射XRD透射电镜TEM扫描电镜SEM能量分散谱EDS等分析手段系统地研究了球形和针状ITO粉末的制备以及热等静压制备ITO靶材的相关工艺成功地制备了外形规整的密度大于99%的圆柱形ITO靶材综述了ITO靶材市场需求的概况 ...受业主委托,中国采招网于2023年06月30日发布昆明市生态环境局拟审批《昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO靶材氧化铟制粉项目环境影响报告书》的公示;项目简介: 根据建设项目环境影响评价审批的有关规定,现将拟审批的《昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO靶材氧化铟制粉项目环境影 昆明市生态环境局拟审批《昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO ...

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揭秘ITO靶材:从定义到特性,一文读懂氧化铟锡

2023年12月20日  ITO靶材,氧化铟锡(Indium Tin Oxide),一种重要的透明导电材料。在薄膜制备领域,ITO靶材作为一种基本的原材料,被广泛应用于电子和光电子设备中。它能在保持高透明度的同时,提供良好的电导性,这使得ITO成为制备透明导电薄膜的理想选择。2022年7月18日  昆明 (略) 建设ITO靶材氧化铟制粉项目 环境影响报告书第一次公示 根据《中华人民共和国环境影响评价法》、《建设项目环境保护管理条例》以及其它国家有关环保法律、法规的规定,云南保兴 (略) 受委托承担《昆明 (略) 建设ITO靶材氧化铟制粉项目环境影响报告书》的编制 昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO靶材氧化铟制粉项目环境 ...

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高密度氧化铟锡 (ITO)靶材制备工艺的研究进展

2009年11月11日  ITO靶材是导电玻璃、LED、太阳能电池等行业的核心材料之一.综合评述了高密度ITO靶材的研究现状.介绍了ITO粉末的制备方法如机械混合法、喷雾热分解法、喷雾燃烧法、化学共沉淀法、金属醇盐水解法、水热合成法等以及ITO靶材的制备工艺.比较和分析了ITO粉体和靶材各制备工艺的优缺点.最后提出了 ...2023年8月29日  昆明裕隆电子材料有限公司应急预案备案前网络公示 昆明裕隆电子材料有限公司建设 ITO 靶材 氧化铟制粉项目 位于 云南安宁产业园区(安宁片区)千亿级绿色新能源电池(新材料)产业园,总投资 5000 万元,其中环保投资 125.2 万元,租 用昆明汇泉高纯半导材料有限公司的标准厂房、办公楼和宿舍 ...工程建设验收公示网

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异质结电池趋势明显 “卡脖子”高端材料靶材国产化加速

2021年6月15日  北极星:ITO 靶材既然那么重要,为什么长期以来被日韩垄断?映日科技:这个问题从两个方面来说明,首先,ITO靶材制备的关键设备及技术,一直以来被日韩控制,随着近几年国内靶材企业研发创新,突破ITO靶材的制粉技术、成型烧结技术,产品 ...2022年6月17日  氧化铟锡(Indium Tin Oxide,ITO)靶材是屏幕显示器、光伏电池、功能玻璃等领域的关键原材料之一,已朝着大尺寸(长度至少600 mm)、高密度、低电阻率和高使用率的方向发展。本文介绍了高性能ITO靶材的技术特征,分析了大尺寸ITO靶材的需求和镀膜 ...大尺寸氧化铟锡 (ITO)靶材制备研究进展

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关键材料打破技术垄断,国产ITO靶材突围成功,日本靶材狂 ...

2021年12月29日  可见,ITO靶材这种关键的材料,必需取得突破才行,所以我国也把ITO靶材列为了重点发展的新材料。2011年6月,国家发改委、科技部等多个部门联合发布《当前优先发展的高技术产业化重点领域指南》,提出要重点发展“TFT-LCD用靶材”。2019年9月13日  董事 伊东裕 致辞 开拓崭新的业务领域需要“变革” 我现在担任名为企划及市场营销本部的部门负责人。我们部门主要负责录用、培训等人事方面工作,同时还承担制定公司组织、机制及制度等工作,由于工作内容与人、公司 伊升机电贸易(上海)有限公司

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溶剂对ITO电极蚀刻的影响 - 华林科纳(江苏)半导体设备 ...

2022年3月29日  扫码添加微信,获取更多半导体相关资料本文研究了室温下盐酸和王水溶剂对ITO膜腐蚀行为的影响,在王水中比在盐酸中获得更高的蚀刻速率,然而,通过XPS分析,发现在王水蚀刻剂中比在HCl中有更多的表面残留副产物,在王水和HCl中的表面浓度(氯与铟的比率)分别为7.2和0.38,还观察到,由于离子化 ...2023年5月9日  ITO靶材的主要原材料包括氧化铟、氧化锡、钛等物质。氧化铟是制备ITO 靶材的最关键原材料,主要供应商包括美国、加拿大、澳大利亚、中国等地。而氧化锡的主要供应商是中国。ITO靶材生产商 全球ITO靶材生产商数量不多,主要集中在美国 ...【新领域探索】——ITO靶材 - 知乎

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高密度ITO靶材的成形工艺及理论分析 - 豆丁网

2016年6月30日  但是在空气中1200 ℃烧结的过程中有较为严重的质量损失,研究者推测 [21、24] :这种质 量损失是由于ITO在高温时发生分解,生成的铟锡单质在高温时挥发所致。 采用爆炸压实工艺成形,可保持粉末的优良性能,大大的降低了对制粉技术的要求。2023年5月18日  序号 文件名称 建设地点 建设单位 环评单位 受理时间 1 ***** 有限公司建设ito靶材氧化铟制粉项目 环境影响报告书》 云南安宁产业园区(安宁片区)千亿级绿色新能源电池(新材料)产业园昆明市生态环境局关于 2023年5月18日建设项目环境影响 ...

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年产60吨ITO靶材产业化项目环境影响报告书的批复.PDF ...

2017年6月3日  年产60吨ITO靶材产业化项目环境影响报告书的批复.PDF,柳环审字〔2016〕25 号 关于广西晶联光电 ... 项目在现有厂房基础上进行改扩建,主要改扩建内容包 括将厂房内东侧现有办公区改建成制粉车间、改建化学品仓库 和对现有污水处理站进行改造 ...

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