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硅晶圆清洗设备是半导体行业保持晶圆纯度和完整性的关键设备。2022年1月5日 在湿法清洗的技术路线下，清洗设备可以分为单片清洗设备、槽式清洗设备、批式旋转喷淋清洗设备和洗刷器等，其中单片和槽式清洗设备是目前主流的清洗设备。快速国产化的半导体清洗设备 - 知乎
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2022年4月19日 高纯工艺系统/设备整体毛利率要低于半导体清洗设备，主要原因是半导体设备售价更高，均价在2百万~2千万的范围，而高纯工艺设备还用于光伏、LED、生物医药等领域，均价在百万元以下。2024年1月12日 1）单晶生长，以高纯硅粉和高纯碳粉作为原材料形成碳化硅晶体；2）衬底环节，碳化硅晶体经过切割、研磨、抛光、清洗等工序加工形成单晶薄片，也即半导体衬底材料；碳化硅功率器件生产工艺流程和功率器件封装清洗介绍 - 合 ...
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2015年6月20日 高纯硅粉深加工主要设备和配套工程如下。 1．机械设备：雷蒙机，沉降系统，磁选、旋风收集器，回收系统，风力破碎机，纯净水装置，轴流见机。 2.电器设备：变压 苏州晶淼 半导体硅（芯）片清洗机 该设备主要用于清除硅（芯）片表面的废屑、金属离子等物质，是硅（芯）片生产过程中重要工序。半导体硅（芯）片清洗机_多片自动清洗机_标准清洗_半导体 ...
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2021年8月6日 光伏行业很快出现高速发展的局面，硅材料生产过程中必需的清洗设备的市场需求仍然非常大。 这些设备分别用于半导体材料行业中多晶硅块料、棒料和硅芯的清洗。 我公司 2024年3月11日 高纯SiC粉体合成方法. 生长SiC晶体用的SiC粉体纯度要求：粒径约为300~500μm，纯度在99.95%~99.9999%之间。 在众多SiC粉合成方法中，气相法通过控制气源中的杂质含量可以获得纯度较高的SiC粉体; 液相法中只有 高纯度碳化硅清洁生产 - 中国粉体网
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在高纯硅的生产过程中，采用了一系列的设备和工艺来确保产品的质量和纯度。 本文将介绍高纯硅生产设备的工作流程，以及每个环节的具体操作和控制要点。 一、原料处理 1.来源：高纯硅 2023年11月9日 工业硅粉广泛应用于有机硅、单晶硅、多晶硅、高技术陶瓷、耐火材料、粉末冶金等行业中。高纯度硅粉深加工采用物理方法加工提纯工业硅粉。该技术是用普通的工业硅为生产材料，经物理方法进行工艺处理，采用自动化 工业硅粉怎么生产高纯硅？浅谈雷蒙磨在工业硅粉生
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2020年3月24日 碳化硅粉体合成设备用于制备生长碳化硅单晶所需的碳化硅粉体，高质量的碳化硅粉体在后续的碳化硅生长中对晶体质量有重要作用。碳化硅粉体合成采用高纯碳粉和硅粉直接反应，通过高温合成的方法生成。碳化硅粉体合成设备主要技术难点在于高温高真空密封2017年1月3日 高纯晶体硅绿色生产关键技术自主创新与产业化 二、推荐单位意见 该项目在国家科技支撑计划、国际间合作以及多项部委计划、新疆自治区 重大专项等科技计划的支持下，针对高纯晶体硅（电子级多晶硅）的高质量、一、项目名称 高纯晶体硅绿色生产关键技术自主创新与产业化 ...
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2022年12月1日 图1球形硅微粉2000X扫描图谱 与角形硅微粉相比，球形硅微粉具有以下优点[7]: （1）球的表面流动性好。与树脂搅拌成膜均匀，使得树脂的添加量小，硅微粉的填充量达到最高，因此球形化意味着硅微粉填充率的增加，而硅微粉的填充率越高，其热膨胀系数就越小，导热系数也越低，也就越接近 ...2023年6月30日 主要用于产业链中衬底材料的制造，通过将高纯硅粉 及碳粉等原料合成碳化硅微粉，置于碳化硅单晶炉内进行碳化硅单晶生长，再经晶锭切磨抛及清洗等工序后，形成碳化硅衬底 ...芯片是怎么来的，离不开晶体生长设备
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3 天之前 高纯晶硅是重要的太阳能光伏和半导体材料，但此前生产技术仅由德国、美国、日本等少数发达国家掌握，中国95%以上的高纯晶硅材料依赖进口，工艺技术不完整、环境污染重、消耗成本高，成为制约高纯晶硅规模化生产的“绊脚石”。2015年7月9日 全自动智能化多晶硅自动破碎生产线是北京德高洁清洁设备有限公司多位工程师历经三年多的悉心研究论证，终于在2011年10月底研制成功, 通过与国内具有影响力的多家大型多晶硅生产企业技术人员多次沟通、反复交流，整体破碎方案已经得到业内专家们的广泛认同，属国际首创，并获得多项国家 ...全自动多晶硅破碎系统-全自动智能化多晶硅自动破碎生产线 ...
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2021年11月6日 5.cn102701208a公开了高纯碳化硅粉体的高温固相合成方法，该方法将高纯硅粉和高纯碳粉混合均匀后，然后进行高真空热处理，即采用高纯惰性气体在不同压力和不同温度下抽真空清洗，然后在1800 ‑ 2100℃进行高温合成，最终获得氮含量在15ppm以下的高纯2018年7月8日 多晶硅硅料生产工艺.ppt,硅材料科学与技术 授课老师：刘仪柯 单位： 新余高等专科学校太阳能科学与工程系 工业硅的生产 高纯多晶硅的生产 太阳电池分类 太阳电池按其材料主要可分为四种类型： (1)硅太阳电池；(2)多元化合物薄膜太阳电池；(3)有机物太阳电池；(4)纳米晶太 多晶硅硅料生产工艺.ppt 64页 - 原创力文档
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2021年2月8日 高纯晶体硅清洁高效生产关键技术研究--中国期刊网 2020年6月2日 本文主要进行高纯晶体硅生产技术的研究工作，了解清洁生产技术的重要性，旨在为高纯晶体硅清洁生产提供工作的研究动力。 【关键词】：高纯晶体硅；清洁生2023年6月19日 技术领域 本发明涉及家居厨房技术领域，具体为氨解法制备高纯氮化硅粉体方法。背景技术 氮化硅是一种重要的结构陶瓷材料，硬度大，本身具有润滑性，并且耐磨损，为原子晶体；高温时抗氧化。氨解法制备高纯氮化硅粉体方法【掌桥专利】
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6 天之前 1、原料合成 ： 将高纯硅粉和高纯碳粉按一定配比混合，在2,000℃以上的高温下反应合成碳化硅颗粒。再经过破碎、清洗等工序，制得满足晶体生长要求的高纯度碳化硅微粉原料。 2、晶体生长： 通常采用物理气相7.1.1硅的理化性质 （1）物理性质 硅有晶态和无定形态两种同素异形体。晶态硅根据原子排列不同分为单晶硅和多晶硅，它们均有金刚石晶格，属于原子晶体，晶体硬而脆，抗拉应力远远大于抗剪切应力，在室温下没有延展性；在热处理温度大于750℃时，硅材料由脆性材料转变为塑性材 第七章 硅的理化性质 硅片的制备 - 百度文库
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2023年3月23日 102家规上企业中，划分为5条产业链，其中石英玻璃制品产业链49家，高纯硅微粉产业链29家，高纯晶体硅产业链6家，新型电光源产业链13家，压电晶体产业链5家。东海县部分石英材料企业 江苏太平洋石英股份有限公司高纯硅粉是半导体制造中必不可少的材料之一。它是制造单晶硅片和晶体 ... 太阳能电池是利用光能转化为电能的设备，而高纯硅粉 是太阳能电池中主要原材料之一。通过对高纯硅粉进行提纯、晶化等工艺处理后，可以获得具有较高光电转换效率和长寿命 ...高纯硅粉的用途 - 百度文库
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半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。 清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。会导致各种缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种。。2021年11月6日 5.cn102701208a公开了高纯碳化硅粉体的高温固相合成方法，该方法将高纯硅粉和高纯碳粉混合均匀后，然后进行高真空热处理，即采用高纯惰性气体在不同压力和不同温度下抽真空清洗，然后在1800 ‑ 2100℃进行高温合成，最终获得氮含量在15ppm以下的高纯应用于半导体领域中的超高纯碳化硅粉制备技术的制作方法
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2020年8月21日 碳化硅粉体合成设备用于制备生长碳化硅单晶所需的碳化硅粉体，高质量的碳化硅粉体在后续的碳化硅生长中对晶体质量有重要作用。 碳化硅粉体合成采用高纯碳粉和硅粉直接反应，通过高温合成的方法生成。碳化硅粉体合成设备主要技术难点在于高温高真空密封2015年6月20日 5高纯硅粉生产主要设备 高纯硅粉是由清洗装置、初级磁选、磨粉系统、沉降系统、干燥系统、磁选、旋风收集系统组成。辅助设施有供电系统、水净化系统。 关键词高纯度硅粉加工流程设备简介能耗分析 中图分类号TF645.3.4文献标识码B谈高纯度硅粉的深加工_百度文库
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2016年3月26日 晶体硅材料中杂质元素的分析方法主要包括红外吸收法、二次离子质谱法、中子活化分析法、辉光放电质谱法、电感 ... 研究，通过提 高质量分辨率的方法降低背景，使磷的检测限达到2.0×10 –3 μg／g，是高纯硅样品中磷杂质含量的最可行的 ...2021年8月16日 反应方程如上。使用氢气作为还原剂，将氢通入三氯氢硅液体中鼓泡，使高纯硅沉积在1100-1200度的高纯硅细棒上（通常在用于沉积的纯硅细棒上通上大电流，使其达到所需的温度），生成的多晶硅棒直径可达到15-20厘 怎样把沙子变成99.999999999%纯度的芯片原材料硅片
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2023年2月4日 1.本发明涉及利用超细硅粉，尤其是光伏切片产生的废弃物硅泥合成制备高纯石英砂的方法。背景技术： 2.高纯石英砂指的是二氧化硅含量大于99.995%以上的砂状颗粒。 高纯石英砂是制备高纯石英材料的原料，高纯石英广泛应用于光源，光纤，半导体和光伏领域。2020年3月5日 同巴斯夫公司的高纯氨相比，我们国产高纯氨仍需要对更多的未知杂质进行有效的确定。因为国产原料液氨的组成更为复杂，我们除了强调气体纯度达到几个“9”，也要更加关注有害杂质的种类和含量。4、三氟化氮（NF3）： 2020电子气体分析硅烷（SiH4）：最好的硅源材
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2023年12月5日 1）单晶生长，以高纯硅粉和高纯碳粉作为原材料形成碳化硅晶体；2）衬底环节，碳化硅晶体经过切割、研磨、抛光、清洗等工序加工形成单晶薄片，也即半导体衬底材料；3）外延片环节，通常使用化学气相沉积（CVD）方法，在晶片上淀积一层单晶形成外延2019年2月12日 本发明涉及高纯半导体材料制备技术领域，尤其是一种探测器用13N超高纯度的锗单晶的制备方法和设备。背景技术超高纯锗单晶作为高纯锗核辐射探测器的材料，一个最重要的性能是具有电活性的净杂质浓度要小于2x1010cm。采用通常的半导体材料工艺，把从化学提纯到5-6个9纯度的材料再用常规的区熔 ...制备13N超高纯锗单晶的方法及设备与流程 - X技术网
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2023年10月27日 但是合成的粉体粒径太小，需要进一步处理才能用于晶体生长。1． 2 液相法制备高纯 SiC ... 研究结果表明通过控制碳粉和硅粉中的杂质含量可以将 B、Fe、Al、Cu、P 等杂质控制在 1 × 10 － 6以下，合成的高纯 SiC 粉体纯度高达 99． 999% 。2023年9月25日 在前不久的首届全国集成电路及光伏用高纯石英材料产业发展大会展会会场，半导体及光伏用高纯石英砂、半导体及光伏用石英玻璃器件、硅基粉体、硅基陶瓷、晶硅光伏等产品，吸引了诸多业内人士驻足。由“资源式增长”向“创新式增长”转变，东海硅产业凭什么行 ...
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2013年3月23日 根据东海硅产业发展特点和发展重点, 东海的产业链近中期应以资源带动型和技术推动型为主, 逐渐向长远期的需求拉动型和综合联动型过渡。根据硅产业的主导产品、依托企业、发展阶段等, 选择出7条引导东海硅产业发展的主导产业链, 分别为：石英玻璃制品加工产业链、高纯硅微粉加工产业链 ...2023年5月24日 11、清洗过的硅泥在密闭反应釜中通过氢气加压， 压力 范围 0.12Mpa， 加温反应， 温度范围80300度， 反应时间0.548小时 ... 0017 本发明的有益效果是， 采用高纯超细硅粉， 尤其是光伏切片硅泥来制备高纯低成 本石英砂和绿色氢气， 产成品石英 ...利用超细硅粉制备高纯石英砂的方法.pdf
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2023年5月19日 中国粉体网讯 目前，生长SiC晶体最有效的方法是物理气相传输法(Physical VaporTransport，即PVT法)，且在升华系统中形成的晶体具有较低的缺陷水准，因此也是主要商业化量产的技术。在采用PVT法生长SiC晶体时，生长设备、石墨元件和保温材料无法避免受到氮杂质的污染，这些材料会吸附大量的氮杂质 ...
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